パルス レーザーPulsed Laser

レーザーのパルス動作とは、連続波として分類されていないレーザーを指します。そのため、光パワーは、一定の繰り返し率で一定の持続時間のパルスで現れます。[1]これには、さまざまな動機に対応する幅広いテクノロジーが含まれます。一部のレーザーは、連続モードで実行できないという理由だけでパルス化されます。

その他の場合、アプリケーションでは、可能な限り大きなエネルギーを持つパルスを生成する必要があります。パルスエネルギーは平均電力を繰り返し率で割ったものに等しいため、パルスの速度を下げてパルス間​​にさらにエネルギーを蓄積することで、この目標を達成できる場合があります。たとえばレーザーアブレーションでは、非常に短時間で加熱すると、ワークピースの表面にある少量の材料を蒸発させることができますが、エネルギーを徐々に供給すると、ワークピースの大部分に熱が吸収されます。 、特定のポイントで十分な高温に達することはありません。

他のアプリケーションは、特に非線形光学効果を得るために、(パルスのエネルギーではなく)ピークパルスパワーに依存しています。所定のパルスエネルギーに対して、これには、Qスイッチングなどの技術を利用して可能な限り短い持続時間のパルスを作成する必要があります。

パルスの光帯域幅は、パルス幅の逆数より狭くすることはできません。非常に短いパルスの場合、これは、連続波(CW)レーザーに典型的な非常に狭い帯域幅とはまったく逆に、かなりの帯域幅でレーザー発振することを意味します。一部の色素レーザーおよび振動固体レーザーのレーザー媒質は、広い帯域幅にわたって光学ゲインを生成し、レーザーを可能にします。これにより、数フェムト秒という短い光のパルスを生成できます。

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